等离子喷涂的涂层注入与增强
等离子喷涂的涂层融入等离子化学元素是一项多年来的技术了，很多时候也铸就了熟线注入成为了技术的主要项目。然而，在许多情况下，对一定厚度的涂层或薄膜的需求更为迫切。由于离子轰击能有效地改善沉积膜与基底之间的结合，使得注入和沉积技术自然地有机结合，增强沉积技术应运而生。特别是自20世纪80年代提出等离子体浸没离子注入技术以来，等离子体源离子注入和沉积技术的出现非常迅速，不仅弥补了改性层薄的缺点，而且改善了普通沉积技术的组合性差。目前，该技术已进入实用阶段。随着工件偏置方式的改进，工艺灵活性大大提高。图6示出了高压脉冲和直流偏压及其组合的处理图。复合偏压技术是由北京航空制造工程研究院高能束实验室首次开发的。目前，等离子喷涂已对典型精密零件进行了小型应用试验，取得了满意的效果。该技术是将工件直接放入成形的等离子体中，在等离子体中加入负高压脉冲和直流复合偏压。根据偏压的不同作用形式，可以在相同的真空循环中分别进行注入、沉积或注入和沉积，这有利于提高工艺的灵活性。
等离子体涂层材料的去除
等离子喷涂涂层的去除是“加工”概念的主要内涵之一。离子刻蚀一直是集成电路制造过程中的重要工艺。随着制造技术的发展，非传统材料去除技术的应用越来越广泛。电子束、激光束、等离子体等不同的能量模式为人们提供了丰富的加工手段。由于能源形式和材料的不同，加工机理、设备、对象、成本等问题也有很大的不同。如激光束加工、电火花加工、电子束加工、等离子束加工等工艺，表面温度可达到10000-30000 K范围。离子束刻蚀和聚焦离子束处理很少超过400 K。表2列出了几种处理技术的处理机理和典型功率密度。近年来，聚焦离子束技术发展迅速，特别是在精密刀具的加工中。由于其能量集中，在加工窄而尖的区域具有独特的优势。如前所述，等离子喷涂的离子束处理需要大量的能量，因此很难完全利用聚焦离子束来制造工具。如果与激光加工相结合，可以为工业服务。
