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等离子喷涂新技术的基本原理

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等离子喷涂.jpg

新的等离子喷涂技术近年来,在等离子喷涂的基础上发展了几种新的等离子喷涂技术,如:真空等离子喷涂(又称低压等离子喷涂)是离子在真空(接近)条件下、处于4-40kpa且有惰性气体保护的密闭室内进行的喷涂技术。由于工作时,气体处于在膨胀过程中低压气体从喷枪中喷射,离子喷射速度超过一马赫,这种技术非常适合于对氧化高度敏感的材料。其主要特点是有惰性气体保护,减少氧化,喷射速度快等。

在水稳等离子喷涂诞生之前,等离子喷涂的工作时所使用的介质是气体,但这种技术工作时所使用的介质是液体而不是气体。它是一种大功率喷枪喷射高速水等离子喷涂方法。其工作原理是:高压水以切线的方式进入喷枪,在枪管内壁形成涡流。此时,枪体后部的阴极与枪体前部的旋转阳极之间形成一条直线,流动电弧使枪体内壁的水超高温(高达50000°)蒸发水为等离子体状态,产生连续的等离子体电弧。由于旋转涡流水的聚束效应,其能量密度增大,燃烧稳定。因此,它可以喷涂高熔点材料,尤其是氧化物陶瓷,具有非常高的喷涂效率。喷涂量约为每小时100公斤金属、30-60公斤陶瓷粉。


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